光刻机也叫激光雕刻机，是专门用来制造电子芯片的机器，现在芯片应用最广的当属手机、汽车、通信设施等领域，因制造门槛较高，光刻机也被称为“现代光学工业之花”。如今荷兰ASML是全球唯一一家可以生产高端EUV光刻机的厂商。

  很多年前，中国国产光刻机也曾有过短暂的辉煌。我国虽然半导体起步晚，先进研发成果一点也不比荷兰的ASML晚。自从50年代第一批半导体人才回到国内，如中国半导体科学奠基人王守武、复旦大学原校长谢希德、中科院院士林兰英等后，也获得极大的发展。1965年，在中科院的领导下，我国第一台65型接触式光刻机研发成功，这也标志着我国光刻机的制造水平已经跻身世界顶尖水平，仅次于美国和日本。1977年，上海光学机械厂成功研制出了拥有计算机辅助光刻研磨工艺的GK-3型半自动光刻机。

  而后，上海光学机械厂又在GK-3的基础上进行了升级，研发出了GK-4版本的半自动型光刻机。1980年，清华大学研制出了已经接近国际主流水平的第四代分布式投影光刻机，这是一款将精度提高到了3微米的光刻机。3微米的制程已经与国际顶尖水平非常接近，然而中国光刻机研发就在这一段时间点突然走向了终结。

  在上个世纪七八十年代，国内的所有人都把注意力集中在了正负电子对撞机的研究方面。而杨振宁先生就曾指出，以当时我国的国情来看，对撞机这类高能物理，就是一个烧钱的无底洞，就算取得成果，至少几十年内也用不上。当时计算机和信息产业正蓬勃兴起，杨振宁建议国内应该加大在半导体方面的投入，芯片的未来一定会有市场，所以发展芯片基础才是重中之重。但是，杨振宁的建议并没有正真获得重视。

  原因也不难理解，因为当时还没有芯片限制，国内的许多企业都奉行“造不如买“的错误思想，才有了如今的芯片制造之困。如果当年听杨振宁先生的话，光刻机不会卡脖子。

  国内开始兴起了“资本风”，不少实业企业纷纷转型进入长期资金市场，挣快钱，进而导致当时很多研究项目无疾而终，同时也间接地导致了研究资源再次受到限制。“资本风”的兴起再加上当时外资企业带入到中国一些低价格、高性能的产品，国外设备的成本更低，利润更高，很多国内企业在采购时也相继抛弃国产设备。甚至后来还出现了“造不如买、买不如租”的荒谬理论，这也极大地阻碍了我国实业的发展。值得高兴的是，近年来，国家采取了一系列的措施让国人重新重视起了实业和技术的重要性。

  “研发对公司来说是找死”这是当时国内科技公司的普遍论调。这种论调使得国产光刻机的公司，在取得一点点成绩后便暂停了研发投入，过早地期望通过市场化赚取利润，最后导致失败。

  其实企业要屹立不倒，就必须拥有别人无法追赶的创新速度，企业要想拥有持续发展的动力，就得不断地对产品做研发升级，并努力掌握核心技术，这样才可以让企业在众多竞争者中立于不败之地。

  1996年，以美国为首的西方33个国家签署了《瓦森纳协定》，《瓦森纳协定》对西方国家高端技术的出口做了严格的规定，这是西方国家进行技术封锁的标志性事件。

  由于《瓦森纳协定》的限制，中国不能获取国外最新的科技技术及设备。拿光刻机来说，在2015年如果是美国的英特尔、韩国的三星等能买到荷兰ASML公司10nm的光刻机，那么中国的相关企业就只能买到他们2010年生产的32nm的光刻机。但是就手机的市场来说，5年的时间，技术早已更新换代几次了。因此，技术封锁也是我国光刻机技术发展落后的一大原因。

  最后，科技是第一生产力，科技也是硬实力，国与国总实力的竞争也已经从能源储备转向了科技储备。同样，现代企业的发展也与其掌握的技术紧密关联，企业要坚持研发的投入，即使短时间之内我们的企业没有在核心科技方面取得突破，但只要坚持到底，我们的企业也终会在相关领域走在前头。

  对于未来我们充满希望，ASML公司CEO温彼得曾说过，如果中国决心自主研发光刻机，不用15年，中国的光刻机会让欧美厂商的市场空间被彻底挤压。

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